日本medas陶瓷和半導(dǎo)體氣體處理裝置KY-05

適用于處理惡臭物質(zhì)、有機(jī)溶劑、陶瓷和半導(dǎo)體氣體，環(huán)境凈化，無(wú)二次污染。

氣體處理有機(jī)化合物（易燃物質(zhì)）的一種方法是使用催化劑的氧化分解（催化氧化）方法。 當(dāng)工藝氣體在空氣中燃燒時(shí)，它可以全部氧化而不會(huì)引起火焰。
當(dāng)直接處理的氣體在火焰中燃燒時(shí)，處理氣體將其保持在600°C~800°C，除非加熱0.3秒~0.5秒或更長(zhǎng)時(shí)間，否則不會(huì)全部氧化，但在催化劑的情況下，溫度也低至200°C~350°C，因此可以應(yīng)用電加熱器，與活性炭吸附和化學(xué)吸收法（洗滌器）相比，處理效率也非常高。 即使是在含有有害有機(jī)金屬化合物的半禪體生產(chǎn)過程中排放的氣體，如果采用本公司的半致密廢氣處理系統(tǒng)，也可以在催化劑表面生成常規(guī)方法無(wú)法處理的氣體作為化合物，排出而不排放出系統(tǒng)。

產(chǎn)品特點(diǎn)

氣體處理有機(jī)化合物（易燃物質(zhì)）的一種方法是使用催化劑的氧化分解（催化氧化）方法。 當(dāng)工藝氣體在空氣中燃燒時(shí)，它可以全部氧化而不會(huì)引起火焰。
當(dāng)直接處理的氣體在火焰中燃燒時(shí)，處理氣體將其保持在600°C~800°C，除非加熱0.3秒~0.5秒或更長(zhǎng)時(shí)間，否則不會(huì)全部氧化，但在催化劑的情況下，溫度也低至200°C~350°C，因此可以應(yīng)用電加熱器，與活性炭吸附和化學(xué)吸收法（洗滌器）相比，處理效率也非常高。 即使是在含有有害有機(jī)金屬化合物的半禪體生產(chǎn)過程中排放的氣體，如果采用本公司的半致密廢氣處理系統(tǒng)，也可以在催化劑表面生成常規(guī)方法無(wú)法處理的氣體作為化合物，排出而不排放出系統(tǒng)。

氣體處理有機(jī)化合物（易燃物質(zhì)）的一種方法是使用催化劑的氧化分解（催化氧化）方法。 當(dāng)工藝氣體在空氣中燃燒時(shí)，它可以全部氧化而不會(huì)引起火焰。
當(dāng)直接處理的氣體在火焰中燃燒時(shí)，處理氣體將其保持在600°C~800°C，除非加熱0.3秒~0.5秒或更長(zhǎng)時(shí)間，否則不會(huì)全部氧化，但在催化劑的情況下，溫度也低至200°C~350°C，因此可以應(yīng)用電加熱器，與活性炭吸附和化學(xué)吸收法（洗滌器）相比，處理效率也非常高。 即使是在含有有害有機(jī)金屬化合物的半禪體生產(chǎn)過程中排放的氣體，如果采用本公司的半致密廢氣處理系統(tǒng)，也可以在催化劑表面生成常規(guī)方法無(wú)法處理的氣體作為化合物，排出而不排放出系統(tǒng)。

日本medas陶瓷和半導(dǎo)體氣體處理裝置KY-05

產(chǎn)品用途

氣體處理有機(jī)化合物（易燃物質(zhì)）的一種方法是使用催化劑的氧化分解（催化氧化）方法。 當(dāng)工藝氣體在空氣中燃燒時(shí)，它可以全部氧化而不會(huì)引起火焰。
當(dāng)直接處理的氣體在火焰中燃燒時(shí)，處理氣體將其保持在600°C~800°C，除非加熱0.3秒~0.5秒或更長(zhǎng)時(shí)間，否則不會(huì)全部氧化，但在催化劑的情況下，溫度也低至200°C~350°C，因此可以應(yīng)用電加熱器，與活性炭吸附和化學(xué)吸收法（洗滌器）相比，處理效率也非常高。 即使是在含有有害有機(jī)金屬化合物的半禪體生產(chǎn)過程中排放的氣體，如果采用本公司的半致密廢氣處理系統(tǒng)，也可以在催化劑表面生成常規(guī)方法無(wú)法處理的氣體作為化合物，排出而不排放出系統(tǒng)。